在真空狀態(tài)下，壓力越來越小，分子間間距越來越大，分子間力越來越小，等離子清洗設備利用高頻源產生的高壓交變電場將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應活性或高能量的等離子體，然后與有機污染物及微顆粒污染物反應或碰撞形成揮發(fā)性物質，然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質清除出去，從而達到表面清潔、活化等目的。如圖所示：
真空室自動開關，一鍵式啟停，操作簡單方便
真空室內置張力控制系統，穩(wěn)定材料漲縮，使處理更加平穩(wěn)
高性能等離子發(fā)生器，激發(fā)更為穩(wěn)定之等離子體
水平電極結構設計，更適合柔性材料
采用中通水冷電極，真正實現過程溫度控制，均衡均一
獨特的卷曲設計，解決卷式材料穿料問題，牽引材料更便捷
精確速度控制，精準控制速度的同時，實現恒張力恒速度
柔性材料的表面清洗、表面活化、表面粗表面刻蝕等
塑膠薄膜、金屬薄膜等水平卷式連續(xù)處理可繞折的卷材
型號 | RTR100L-W500 | |
控制系統 | 控制方式 | 全自動控制（自動/手動切換） |
PLC（標配）/PC（可選） | ||
操作系統 | Windows 10 | |
觸摸屏 | 7寸 | |
整機規(guī)格 | 尺寸 | W6900×D1650×H1150mm |
腔體 | 處理寬幅 | <520mm |
材質 | 鋁合金（標配）/不銹鋼（可選），腔體3段式 | |
冰水機 | 通路 | 用于電源、電極、真空泵浦的冷卻 |
供電 | AC380V、3PH、50/60Hz、3KW | |
蝕刻能效 | 速率 | ≥0.5μm/Min |
均勻性 | ≥90% | |
真空計 | 薄膜硅電容耐腐蝕 | 1個，0-10Torr |
流量計 | MFC質量流量控制器 | 4個，量程0-2000ml/min |
真空泵 | 干泵機組（螺桿泵+羅茨泵） | 1套，120m3/h+1800 m3/h；極限真空值≤50mTorr |
發(fā)生器 | 中頻 | 40KHz，20KW |
溫度控制系統 | 過程溫度控制 | 30-150℃恒定可控 |
張力控制系統 | 數顯張力 | - |
其它 | 工藝氣體：14MPa減壓至0.3MPa，O2=9.99%;Ar=99.99%;N2=99.99%;CF4=99.999% 氣體壓力：0.2MPa≤氣源≤1MPa；氣源壓力：0.3-0.8MPa；氣源純度：無油無水干燥氣體；工作環(huán)境溫度：≤30℃；凍水流量：5 SLM；干燥Air/N2流量：17 SLM | |
